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Informazioni di Base.
Descrizione del Prodotto
Il nitruro di titanio (TiN) è un materiale cermet multifunzionale all'avanguardia caratterizzato da un punto di fusione eccezionalmente elevato, durezza superiore e notevole resistenza ad acidi, alcali e corrosione. Con un basso coefficiente di attrito, lo stagno eccelle in calore e conducibilità elettrica. La polvere ceramica di nitruro di titanio di Yinuo è caratterizzata da purezza impareggiabile, una distribuzione delle dimensioni delle particelle ridotta, eccezionale resistenza alle alte temperature, resistenza significativa alle fratture, eccellente resistenza alla corrosione chimica, eccellente resistenza agli urti termici, bassa densità e durezza eccezionale.
Applicazioni primarie di polvere di nitruro di titanio:
1) ideale per la produzione di carburo cementato, utensili da taglio, stampi e crogioli metallici di fusione, che offrono un'eccezionale resistenza all'usura e resistenza alle alte temperature.
2) utilizzato come rivestimento resistente all'usura e alla corrosione sui materiali. I rivestimenti in stagno sugli utensili da taglio migliorano significativamente la resistenza all'usura e prolungano la durata dell'utensile.
3) come materiale ceramico, viene impiegato nella produzione di prodotti ceramici e bersagli in nitruro di titanio.
4) funge da lubrificante ad alta temperatura a basso coefficiente di attrito, adatto per cuscinetti e anelli di tenuta.
5) utilizzato come materiale conduttivo per elettrodi, giunti elettrici e resistori a film sottile nell'elettrolisi del sale fuso grazie alla sua eccellente conduttività elettrica.
6) impiegato come materiale d'imitazione d'oro nelle industrie di gioielleria e decorazione per la sua bellezza, le proprietà anticorrosione, e la durata estesa di mestieri.
Altri obiettivi correlati: Ossido di alluminio (Al2O3) catodico bersaglioOssido di zinco (AZO) alluminio sputtering Target
Ossido di indio (In203) bersaglio di sputtering
Bersagli di sputtering dell'ossido di indio stagno (ITO)
Ossido di zinco (ZnO) catodico bersaglio
Target di polverizzazione catodica dell'ossido di stagno (SnO2)
Ossido di tantalio (Ta205) bersaglio sputtering
Ossido di niobio (Nb2O5) bersaglio di sputtering
Materiali di sputtering relativi
Ossido di zinco (ZnO) catodico bersaglio
Ossido di titanio (TiO2) bersaglio sputtering
Target di sputtering del biossido di manganese (MnO2)
Nitruro di titanio (stagno) sputtering Target
Target di polverizzazione catodica in nitruro di silicio (Si3N4)
Ossido di alluminio (Al2O3) catodico bersaglio
Target di polverizzazione catodica al carburo di silicio (SiC)
Target di polverizzazione catodica dell'ossido di cobalto (Co203)
Nitruro di alluminio (AlN) sputtering Target
Ossido di stagno indio (ITO) bersaglio di sputtering
Target di sputtering del biossido di vanadio (VO2)
Target di polverizzazione catodica del biossido di silicio (SiO2)
Ossido di ferro (Fe203) bersaglio sputtering
Ossido di magnesio (MgO) catodico bersaglio
Obiettivo sputtering in ossido di stagno (SnO2) di alta qualità - precisione realizzata per Prestazioni superiori
Target di sputtering ad alte prestazioni con ossido di rame (CuO) - progettato per eccellenza
Obiettivo di sputtering NiO di alta qualità - progettato per prestazioni superiori E qualità senza compromessi
Target di sputtering triossido di molibdeno (MoO3) di alta qualità - meticolosamente progettato per Precisione e uniformità senza pari
Eccezionale bersaglio sputtering con triossido di tungsteno (WO3) che offre una consistenza senza pari E ad alta efficienza per applicazioni avanzate
Target di sputtering al litio fosfato di ferro (LiFePO4) di livello superiore: Affidabile, efficiente e perfettamente realizzato per prestazioni ottimali
Target di sputtering con solfuro di zinco (ZnS) avanzato - ottimizzato per applicazioni ad alte prestazioni, per risultati superiori
Target di telluride bismuto superiore (Bi2Te3) per la polverizzazione catodica - la scelta ideale Per tecnologie all'avanguardia e soluzioni innovative
Obiettivo di sputtering con ossido di gallio (Ga2O3) di alta qualità - progettato per eccellenza E prestazioni eccezionali in ogni utilizzo
Target di sputtering ad alto grado in ossido di indio (In2O3): Coerente, affidabile e perfetto per requisiti di alta precisione
Target di sputtering al tantalio pentossido (Ta2O5) di alta qualità - progettato per la precisione Applicazioni e prestazioni eccezionali
Eccezionale obiettivo di polverizzazione catodica Niobium pentoxide (Nb2O5) - realizzato per garantire durata, prestazioni e qualità superiore
Certificato di analisi (COA) per target ceramici / stagno
1. Elevare e conservare gli attributi della superficie: Migliorare la durezza, la resistenza all'usura, la resistenza alla corrosione e altre proprietà chiave dei materiali, garantendo una lunga durata e prestazioni superiori.
2. Creazione di materiali all'avanguardia: Indispensabili sia per lo sviluppo di nuovi materiali che per il miglioramento di quelli esistenti, i nostri materiali ceramici SiO2 sono fondamentali in applicazioni quali celle solari, LED, display a schermo piatto e altro ancora.
3. Fabbricazione di componenti elettronici: I nostri materiali ceramici SiO2 ad alta purezza sono fondamentali per la produzione di componenti elettronici come transistor e circuiti integrati, offrendo prestazioni eccezionali e affidabilità senza pari.
Sviluppo tecnologico avanzato: Essenziale per la progressione di superconduttori, film ottici, sensori e una vasta gamma di materiali avanzati, che spingono in avanti gli orizzonti della tecnologia e dell'innovazione.
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