La deposizione fisica in fase vapore (PVD) elabora apparecchiature per la deposizione di film sottile per sputtering

Servizio post-vendita: i tecnici possono essere inviati al cantiere
Garanzia: 1 anno
Tipo: Rivestimento Linea di produzione
Rivestimento: Vacuum Coating
Substrato: Alluminio
Certificazione: CE

Products Details

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Panoramica

Informazioni di Base.

Stato
Nuovo
nome dell′apparecchiatura
apparecchiature per la deposizione di film sottili per sputtering
settori applicabili
stabilimento di produzione, fornitore di servizi di rivestimento pvd
dimensioni
fatto su misura
tensione
380 v.
dimensione(l*w*h)
5*4*3 metri
potenza
80 kw
Pacchetto di Trasporto
Packing and Delivery: 1. Inside Package Is Plasti
Specifiche
Personalizzato
Marchio
Hondson VAC
Origine
Hunan, China
Codice SA
8543300090
Capacità di Produzione
30 Set/Sets Per Year

Descrizione del Prodotto

La deposizione fisica in fase vapore (PVD) elabora apparecchiature per la deposizione di film sottile per sputtering
Physical Vapor Deposition (PVD) Processes Sputtering Thin Film Deposition Equipment

 

Physical Vapor Deposition (PVD) Processes Sputtering Thin Film Deposition Equipment

DEPOSIZIONE DI SPRUZZAMENTO
La deposizione per vaporizzazione catodica, altrimenti nota come sputtering, è il processo in cui il materiale non viene vaporizzato termicamente e gli atomi vengono fisicamente reindirizzati dal materiale sorgente al substrato per collisione da una particella che bombarda. La distanza dalla sorgente al substrato è molto più breve di quella della deposizione sotto vuoto. Lo spruzzatore può essere effettuato anche sotto una pressione plasmatica più alta di 5-20 mTorr e il materiale viene riscaldato da collisioni con molecole di gas. La sorgente di sputtering stessa può essere costituita da elementi, leghe, miscele o composti. Nitruro di titanio (stagno) e nitruro di zirconio (ZrN) insieme ad alcuni carbonio tipo diamante (DLC) misti di boro sono rivestimenti comuni per questo processo. Questa forma di deposizione è comunemente usata nella fabbricazione di semiconduttori, su vetro architettonico, rivestimenti riflettenti, compact disc (CD), pellicole magnetiche, lubrificanti a pellicola asciutta e rivestimenti decorativi.

Spruzzamento catodico CC

Physical Vapor Deposition (PVD) Processes Sputtering Thin Film Deposition Equipment

La macchina per spalmatura catodica a magnetron DC  è solitamente utilizzata per spalmatura catodica diretta per diversi substrati, come ad esempio materiali plastici, vetro, metallo, ceramica, ecc.

Physical Vapor Deposition (PVD) Processes Sputtering Thin Film Deposition Equipment

 

Abbiamo dedicato più di 10 anni alla produzione e alla progettazione di magnetron che possono essere rettangolari, cilindrici, circolari e di varie dimensioni. Hanno sviluppato una pletora di bersagli che possono essere raffreddati direttamente o legati, e possono essere fabbricati in modo tale da adattarsi alla maggior parte delle dimensioni di magnetron.

I campi magnetici possono essenzialmente definire il comportamento e le proprietà delle particelle cariche ioniche che vengono utilizzate per la polverizzazione catodica. Lo sviluppo e la commercializzazione di software che possono consentire la modellazione distinta dello sputtering di magnetron è destinato ad aumentare la sua produttività, applicabilità e riproducibilità.

 

Specifiche tecniche
Numero modello SP-1000 SP-1200 SP-1400 SP-1800
Dimensione della camera a vuoto 1000*1100 1200*1400 1400*1600 1800*2000
(diametro*altezza)
Materiale camera a vuoto Acciaio al carbonio, SUS304 o SUS316L
Quantità di catodi di sputtering ≥1 set, sistema di spruzzatura catodica CC, catodi cilindrici o rettangolari
Impianto di pompaggio Pompe turbomolecolari o pompa di diffusione+pompa meccanica
Tempo di pompaggio Dall'atmosfera a 5.0*10-2Pa a meno di 8 minuti
Sistema di distribuzione del gas con regolatori di flusso di massa ≥2 set
Vuoto finale 5.0*10-4 Pa
Temperatura di esercizio Temperatura ambiente
Modalità di lavoro Modalità automatica o manuale, da 10.4 (o 15) pollici PLC touchscreen
Potenza totale 40 kW 70 kW
Queste unità possono essere personalizzate 1. Dimensioni della camera a vuoto
2. Quantità di catodi sputtering
3. Configurazioni delle pompe
4. Sistema di distribuzione del gas
Strumenti opzionali 1. Monitor spessore rivestimenti
2. Rilevatore di perdite
3. Sistema di deposizione di ioni ad arco (non per modello continuo)
4. Sistema di evaporazione (non per modello continuo)

PS:  Tutte le specifiche possono essere personalizzate in base alle vostre richieste.

Physical Vapor Deposition (PVD) Processes Sputtering Thin Film Deposition Equipment

Informazioni sulla società

 

Physical Vapor Deposition (PVD) Processes Sputtering Thin Film Deposition Equipment
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Imballaggio e spedizione

 

Physical Vapor Deposition (PVD) Processes Sputtering Thin Film Deposition Equipment

 

1. L'imballaggio interno è costituito da una pellicola protettiva in plastica per proteggere la macchina PVD da umidità e pioggia.

2. L'imballaggio esterno è una piastra di compensato con acciaio per mantenere la macchina PVD in buone condizioni durante il trasporto a lunga distanza.

 

Dopo che il cliente ha testato la macchina per rivestimento PVD e si è assicurato che non vi siano problemi, la macchina verrà separata.  L'imballaggio solido può assicurarsi che riceverete una macchina senza alcuna distruzione.

FAQ

Physical Vapor Deposition (PVD) Processes Sputtering Thin Film Deposition Equipment

 
 
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Guida alla richiesta:

La macchina per rivestimento PVD può essere utilizzata per materiali e industrie differenti. Per consigliarvi la macchina appropriata, abbiamo bisogno del vostro aiuto per dirci:

 

Qual è il materiale del vostro prodotto?

Qual è la dimensione massima della parte?

Qual è la dimensione dei ricambi più comune?

Qual è la quantità desiderata di parti da rivestire quotidianamente?

Quali sono i colori di rivestimento o rivestimenti desiderati?


 
 

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