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- Sputtering MF
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Informazioni di Base.
Descrizione del Prodotto
Installazione di spruzzatore sottovuoto a deposizione fisica in fase di vapore linea di rivestimento PVD
L'apparecchiatura è una struttura ragionevole, che si riveste uniformemente in buona qualità, velocità di pompaggio, ciclo di breve, alta efficienza e facile funzionamento, basso consumo energetico e vantaggi prestazionali di stabilità. Ampiamente utilizzato in auto, audio e vari piccoli elettrodomestici, computer, orologi e orologi, giocattoli, telefoni cellulari, Coppa riflettente, cosmetici, giocattoli e altre industrie.
La macchina per spalmatura catodica a magnetron DC è solitamente utilizzata per spalmatura catodica diretta per diversi substrati, come ad esempio materiali plastici, vetro, metallo, ceramica, ecc.
Abbiamo dedicato più di 10 anni alla produzione e alla progettazione di magnetron che possono essere rettangolari, cilindrici, circolari e di varie dimensioni. Hanno sviluppato una pletora di bersagli che possono essere raffreddati direttamente o legati, e possono essere fabbricati in modo tale da adattarsi alla maggior parte delle dimensioni di magnetron.
I campi magnetici possono essenzialmente definire il comportamento e le proprietà delle particelle cariche ioniche che vengono utilizzate per la polverizzazione catodica. Lo sviluppo e la commercializzazione di software che possono consentire la modellazione distinta dello sputtering di magnetron è destinato ad aumentare la sua produttività, applicabilità e riproducibilità.
| Specifiche tecniche |
| Numero modello | SP-1000 | SP-1200 | SP-1400 | SP-1800 |
| Dimensione della camera a vuoto | 1000*1100 | 1200*1400 | 1400*1600 | 1800*2000 |
| (diametro*altezza) | ||||
| Materiale camera a vuoto | Acciaio al carbonio, SUS304 o SUS316L | |||
| Quantità di catodi di sputtering | ≥1 set, sistema di spruzzatura catodica CC, catodi cilindrici o rettangolari | |||
| Impianto di pompaggio | Pompe turbomolecolari o pompa di diffusione+pompa meccanica | |||
| Tempo di pompaggio | Dall'atmosfera a 5.0*10-2Pa a meno di 8 minuti | |||
| Sistema di distribuzione del gas con regolatori di flusso di massa | ≥2 set | |||
| Vuoto finale | 5.0*10-4 Pa | |||
| Temperatura di esercizio | Temperatura ambiente | |||
| Modalità di lavoro | Modalità automatica o manuale, da 10.4 (o 15) pollici PLC touchscreen | |||
| Potenza totale | 40 kW | 70 kW | ||
| Queste unità possono essere personalizzate | 1. Dimensioni della camera a vuoto | |||
| 2. Quantità di catodi sputtering | ||||
| 3. Configurazioni delle pompe | ||||
| 4. Sistema di distribuzione del gas | ||||
| Strumenti opzionali | 1. Monitor spessore rivestimenti | |||
| 2. Rilevatore di perdite | ||||
| 3. Sistema di deposizione di ioni ad arco (non per modello continuo) | ||||
| 4. Sistema di evaporazione (non per modello continuo) | ||||
PS: Tutte le specifiche possono essere personalizzate in base alle vostre richieste.
Avrete bisogno di alcuni pezzi necessari per la produzione quotidiana, possiamo anche fornire:
· Pompe per vuoto
· Catodo sputtering c.c. con alimentatori
· Catodo sputtering non bilanciato con alimentatori
· O-ring
· Vacuometro con manometri/sensori
· Alimentazione di polarizzazione
· Valvole magnetiche
· MFC
· Materiali di destinazione
· Maschere personalizzate
Per ulteriori dettagli, contattateci.