- Panoramica
- Descrizione del prodotto
- Parametri del prodotto
- Foto dettagliate
- Profilo aziendale
- Imballaggio e spedizione
- FAQ
Informazioni di Base.
Descrizione del Prodotto
Il laboratorio 2 pollici 1/2/3 è destinato alla macchina per il rivestimento spray al plasma
1. Questo tipo di piccola macchina per spalmatura catodica al plasma adotta un metodo di spruzzatura catodica monostadio, ampiamente utilizzato per SEM
preparazione del campione o esperimento di rivestimento metallico.
2. Utilizzando il processo di spruzzatura catodica al plasma a bassa temperatura, non si ha alta temperatura durante il processo di rivestimento, il danno termico è
a malapena accade.
3. Questo piccolo spalmatore di plasma utilizza un sistema di controllo PLC + touch screen , facile da utilizzare. Uno stadio di campionamento girevole è
attrezzato.
4. Questo piccolo strumento per la polverizzazione catodica al plasma utilizza un sistema di controllo PLC + Tounch Screen, facile da apprendere e utilizzare.
5. Viene fornito con dimensioni ridotte, adatto per i processi di ricerca in laboratorio.
Specifiche del plasma coater:
| Modello del prodotto | TN-PLZ180-I-DC-Q. | |
| Fase campione | Dimensioni | 100 mm |
| Velocità di rotazione | 1~20 giri/min regolabili | |
| Sorgente di polverizzazione del plasma | Quantità | 2 pollici*1 |
| Camera a vuoto | Dimensioni camera | φ180mm x 210 mm |
| Finestra osservazione | Visibilità omnidirezionale | |
| Materiale della camera | Quarzo ad alta purezza | |
| Metodo aperto | Coperchio superiore rimovibile | |
| Materiale del coperchio superiore e inferiore | acciaio inossidabile 304 | |
| Porta di pompaggio | KF16 | |
| Luce di aspirazione | connettore a ghiera da 1/4 pollici | |
| Configurazione dell'alimentazione | Quantità | Alimentatore c.c. x1 |
| Potenza di uscita | Max. 150 W. | |
| Potenza di sputtering | 1200 V. | |
| Corrente di sputtering max | 50 ma | |
| Sistema a vuoto | Tipo di pompa a vuoto | Pompa a vuoto rotativa a palette a doppio stadio |
| Porta di pompaggio | KF16 | |
| Interfaccia di scarico | KF16 | |
| Velocità di pompaggio | 1,1 l/s (4 m3/h) | |
| Vuoto finale | ≥0,1 Pa | |
| Misurazione del vuoto | Vacuometro a resistenza | |
| Altri | Alimentazione | CA 220 V 50 Hz |
| Potenza totale | 1,5 kW/2 kW | |
| Quota | 500 mm x 320 mm x 470 mm | |
| Peso | 30 kg | |
1. Abbiamo target 1/2/3 di catacatero per la polverizzazione del plasma
2. Il supporto rotante, il sollevamento, il riscaldamento sono opzionali
L'alimentatore da 150 W, 300 W, 500 W CC o RF è opzionale 
Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd. È una società completa che integra design, ricerca e sviluppo, produzione e vendite.
I prodotti principali della nostra azienda sono: Spin coater, Thermal evaporation coater, magnetron sputter coater, plasma sputter coater, e-beam evaporation coater, Macchina per il rivestimento laser ad impulsi PLD, pulitore al plasma, sistema CVD, sistema PECVD, macchina per il taglio a filo diamantato, forno di fusione/stufa, forno di fusione ad arco, ecc.
I nostri prodotti sono ampiamente utilizzati nel campo della ricerca scientifica sui materiali. Abbiamo una cooperazione estesa con università nazionali, laboratori e nuove aziende di materiali. È stato esportato con successo in più di 20 paesi e regioni, inclusi Stati Uniti, Regno Unito, Germania, Russia, Svizzera, Canada, Brasile, ecc. e hanno stabilito rapporti di cooperazione a lungo termine con i commercianti locali.
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promettere la qulaity e il servizio post-vendita.
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